Fraunhofer-Institut für Betriebsfestigkeit und Systemzuverlässigkeit LBFStrahlungssensitiver Lack (Resist) für die Elektronenstrahl-Lithografie
IndiNaPoly - Individuelle nanotechnologische Polymerplattform für die Großserientauglichkeit künftiger Halbleitergenerationen
Die Lithografie ist entscheidend für die Herstellung elektronischer Halbleiter. Neue Lacke (Resiste) mit hoher Sensitivität und Auflösung sind erforderlich, um die Bauteildichte zu erhöhen und die Massenproduktion zu bewältigen. Mit dem Projekt »IndiNaPoly« wollen Fraunhofer-Forschende die chemische Industrie unterstützen, um einen technologischen Vorsprung zu erzielen und neue Märkte erschließen zu können. Resisthersteller sind ein wichtiges Bindeglied in der Halbleiterindustrie. Hersteller von Spezialpolymeren und Halbleiter profitieren ebenfalls von den Ergebnissen.
Mit chemischen und prozesstechnischen Kompetenzen die Lücke zwischen Sensitivität und Auflösung in der Lithografie schließen
Das Projekt adressiert Herausforderungen neuer Technologien wie Künstliche Intelligenz, Quanten-Computing, 5G und das Internet der Dinge. Der Fokus liegt auf der Entwicklung empfindlicherer Resiste für die Elektronenstrahl-Lithografie. Diese ermöglichen hochauflösende Abbildungen nanoskaliger Strukturen bei kürzeren Belichtungszeiten. IndiNaPoly schließt die Lücke zwischen Sensitivität und Auflösung in der Lithografie, was chemische und prozesstechnische Kompetenzen erfordert.
Die Projektziele werden durch individuelle Polymersynthese und kontinuierliche Optimierung der lithografischen Prozessschritte erreicht. Höhere Auflösungen und kürzere Belichtungszeiten tragen zur Energieeinsparung und zur Reduzierung des CO2-Fußabdrucks bei.
Das Fraunhofer LBF konzentriert sich auf die Entwicklung neuer Polymermaterialien. Der Fokus liegt auf Verbesserung der Abbildungseigenschaften und schnelleren, nachhaltigen Synthesestrategien. Weitere Eigenschaften wie Adhäsion, Ätzstabilität und Umweltverträglichkeit werden ebenfalls betrachtet.
